9月4日、第5回日中意匠制度シンポジウムが北京で開催された。中国国家知識産権局、日本特許庁、中華全国専利代理人協会、日本貿易振興機構及び知名企業などより150名の代表者が出席した。

　本シンポジウムは、知的財産権の保護及び活用の重要性が高まる中で、特に意匠権に注目し、日中両国の意匠制度及び運用の理解を深めることを目的として、2008年に第1回目を開催し、今回、第5回目を迎えました。

　シンポジウムでは、「意匠に顕著な差異の有無に関する判断」について国家知識産権局専利復審委員会意匠申立処の徐青平副処長から、「日本意匠制度の近況、意匠の新規性及び創作性の判断」について特許庁審査第一部意匠課の木本直美上席総括審査官から、「中国における意匠専利権評価書の最新状況紹介」について国家知識産権局意匠審査部審査二処劉悦副処長から、「色彩の扱い、新規性喪失の例外」について特許庁総務部国際協力課の重坂舞係長から、「部分意匠とGUI制度に関する検討」について国家知識産権局意匠審査部の王暁雲副部長から、それぞれご講演をいただきました。

　講演後、国家知識産権局の意匠審査官•審判官や中国専利代理人、日系企業の知的財産権関係者等の参加者から、中国における部分意匠制度の導入についての検討状況、日本の意匠審査官による検索方法、日本における新規性喪失の例外適用に関する利用状況等について質問がなされ、活発な質疑応答が行われました。

　また、シンポジウムからの情報では、2008年から2012年、外国による意匠出願の中、日本からの出願件数は5年連続1位で、アメリカはそれに次ぐ第2位だった。